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Als Low-k-Dielektrikum wird in der Halbleitertechnologie ein Material bezeichnet, das eine niedrigere Dielektrizitätszahl als SiO 2 aufweist, d. h. ε r < 3,9. Angestrebt werden heutzutage sogenannte Ultra-low-k-Materialien , deren Dielektrizitätszahl kleiner als 2,4 ist.
Low-κ dielectric. In semiconductor manufacturing, a low-κ is a material with a small relative dielectric constant (κ, kappa) relative to silicon dioxide. Low-κ dielectric material implementation is one of several strategies used to allow continued scaling of microelectronic devices, colloquially referred to as extending Moore's law.
Lexikon. Low-k-Dielektrikum. Als Low-k-Dielektrikum wird in der Halbleitertechnologie ein Material bezeichnet, das eine niedrigere Dielektrizitätszahl als SiO 2 aufweist, d. h. ε r < 3,9. Angestrebt werden heutzutage sogenannte Ultra-low-k-Materialien, deren Dielektrizitätszahl kleiner als 2,4 ist. Richtiges Wägen mit Laborwaagen: Die Wägefibel.
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Das Fraunhofer ENAS bietet eine große Bandbreite an Methoden, um dichte und poröse low-k dielektrische Materialien zu analysieren. Dies beinhaltet unter anderem die Bestimmung von optischen, elektrischen, mechanischen, thermischen und strukturellen Materialeigenschaften.
Als High-k-Dielektrikum wird in der Halbleitertechnik ein Material bezeichnet, das eine höhere Dielektrizitätszahl aufweist als herkömmliches Siliciumdioxid (ε r = 3,9) oder Siliciumoxinitride (ε r < 6).
Wiederherstellung des k-Wertes (k-restore) plasmageschädigter low-k-Dielektrika. Plasmaschädigungen im low-k-Material wie zum Beispiel Kohlenstofferverarmung aufgrund des Aufbrechens von Si-C-Bindungen, Hydrophylisierung der low-k-Oberfläche und Verdichtung des Oberflächenmaterials führen zu steigenden k-Werten und Leckströmen. Zudem ist ...
